Душ слушалка от силициев карбид

VeTek Semiconductor Silicon Carbide душ слушалка е направена основно от SiC. При обработката на полупроводници основната функция на душовата глава от силициев карбид е да разпределя равномерно реакционния газ, за ​​да осигури образуването на равномерен филм по време нахимическо отлагане на пари (CVD)илифизическо отлагане на пари (PVD)процеси. Благодарение на отличните свойства на SiC като висока топлопроводимост и химическа стабилност, SiC душ слушалката може да работи ефективно при високи температури, намалявайки неравномерността на газовия поток по време напроцес на отлаганеи по този начин подобрява качеството на филмовия слой.

Душ глава от силициев карбид може равномерно да разпредели реакционния газ през множество дюзи с еднакъв отвор, да осигури равномерен газов поток, да избегне локални концентрации, които са твърде високи или твърде ниски, и по този начин да подобри качеството на филма. В комбинация с отличната устойчивост на висока температура и химическа стабилност наCVD SiC, не се отделят частици или замърсители по време напроцес на отлагане на филм, което е от решаващо значение за поддържане на чистотата на отлагането на филма.

В допълнение, друго основно предимство на CVD SiC душ слушалка е нейната устойчивост на термична деформация. Тази характеристика гарантира, че компонентът може да поддържа физическа структурна стабилност дори в среда с висока температура, типична за процесите на химическо отлагане на пари (CVD) или физическо отлагане на пари (PVD). Стабилността минимизира риска от разместване или механична повреда, като по този начин подобрява надеждността и експлоатационния живот на цялото устройство.

Като водещ производител и доставчик на душ слушалки от силициев карбид в Китай. Най-голямото предимство на душ слушалката от силициев карбид VeTek Semiconductor CVD е способността да предоставя персонализирани продукти и технически услуги. Нашето персонализирано предимство на услугата може да отговори на различните изисквания на различни клиенти за повърхностно покритие. По-специално, той поддържа усъвършенстваното персонализиране на зрели технологии за обработка и почистване по време на производствения процес.

В допълнение, вътрешната стена на порите на VeTek Semiconductor Silicon Carbide Shower Head е внимателно обработена, за да се гарантира, че няма остатъчен повреден слой, подобрявайки цялостната производителност при екстремни условия. В допълнение, нашата CVD SiC душ глава е в състояние да постигне минимален отвор от 0,2 mm, като по този начин постига отлична точност на подаване на газ и поддържа оптимален газов поток и ефекти на отлагане на тънък слой по време на производството на полупроводници.

SEM ДАННИ НАCVD SIC ФИЛМ КРИСТАЛНА СТРУКТУРА：

Основни физични свойства на ССЗ SiC покритие：

Магазини за душ слушалки от силициев карбид VeTek Semiconductor: