ALD приемник

Като професионалистALD рецепторпроизводител в Китай, нашият продуктALD рецепторПрецизният контрол на температурата, равномерното разпределение на газа и отличната топлопроводимост и други характеристики на продукта определят товаALD рецепториграе решаваща роля в процеса на отлагане на атомен слой (ALD). Важна роля, приветстваме вашата консултация.

Равномерно отлагане на тънък слой:ALD Susceptor осигурява равномерно отлагане на атомни слоеве по цялата повърхност на пластината по време на процеса на отлагане на атомен слой (ALD). Неговият уникален въртящ се дизайн позволява на газовете и реагентите да контактуват равномерно с повърхността на вафлата, което води до еднаква дебелина на филма. Това е от решаващо значение за високопрецизното производство на полупроводници.

Подобрете качеството на отлагането: Чрез оптимизиране на контрола на температурата и разпределението на газа, ALD Susceptor значително подобрява качеството и производителността на филма, като намалява дефектите и нееднородността. Това го прави идеален за производство на високопрецизни полупроводници и електронни устройства, осигурявайки надеждност и производителност на продукта.

Поддържа обработка на множество вафли: Определени дизайни на ALD Susceptor позволяват едновременното обработване на множество пластини, което повишава ефективността на производството. Това е особено важно за високопроизводителни производствени среди, способни да отговорят на нуждите на широкомащабно производство.

Побира различни размери и видове вафли:ALD Susceptors обикновено са проектирани за висока съвместимост и могат да поддържат различни размери и типове пластини. Това го прави ефективен в различни производствени процеси, осигурявайки по-голяма гъвкавост и адаптивност.

Намаляване на производствените разходи: Благодарение на ефективното си газоразпределение и възможностите за равномерно нагряване, ALD Susceptor повишава ефективността на процеса на отлагане, като по този начин намалява материалните отпадъци и производствените разходи. Това не само помага за подобряване на ефективността на производството, но също така значително намалява производствените разходи.

Основни физични свойства на CVD SiC покритие:

Производствени цехове:

Преглед на индустриалната верига за епитаксия на полупроводникови чипове：