VeTek Semiconductor Solid Silicon Carbide е важен керамичен компонент в оборудването за плазмено ецване, твърд силициев карбид (CVD силициев карбид) частите в оборудването за ецване включватфокусиращи пръстени, газов душ, тава, ръбови пръстени и т.н. Поради ниската реактивност и проводимост на твърдия силициев карбид (CVD силициев карбид) към хлор и флуорсъдържащи ецващи газове, той е идеален материал за фокусиращи пръстени на оборудване за плазмено ецване и други компоненти.
Например пръстенът за фокусиране е важна част, поставена извън пластината и в пряк контакт с пластината, чрез прилагане на напрежение към пръстена за фокусиране на плазмата, преминаваща през пръстена, като по този начин фокусира плазмата върху пластината, за да подобри равномерността на обработка. Традиционният фокусен пръстен е изработен от силикон иликварц, проводящ силиций като общ материал за фокусиращи пръстени, той е почти близо до проводимостта на силициевите пластини, но недостатъкът е лошата устойчивост на ецване във флуорсъдържаща плазма, материалите за ецване на машинни части, често използвани за определен период от време, ще има сериозни явление на корозия, което сериозно намалява неговата производствена ефективност.
Sстар SiC пръстен за фокусиранеПринцип на работа:
Сравнение на базиран на Si фокусиращ пръстен и CVD SiC фокусиращ пръстен:
Сравнение на базиран на Si фокусиращ пръстен и CVD SiC фокусиращ пръстен | ||
Артикул | и | CVD SiC |
Плътност (g/cm3) | 2.33 | 3.21 |
Забранена лента (eV) | 1.12 | 2.3 |
Топлопроводимост (W/cm℃) | 1.5 | 5 |
CTE (x10-6/℃) | 2.6 | 4 |
Модул на еластичност (GPa) | 150 | 440 |
Твърдост (GPa) | 11.4 | 24.5 |
Устойчивост на износване и корозия | беден | Отлично |
VeTek Semiconductor предлага усъвършенствани части от твърд силициев карбид (CVD силициев карбид), като SiC фокусиращи пръстени за полупроводниково оборудване. Нашите фокусиращи пръстени от твърд силициев карбид превъзхождат традиционния силиций по отношение на механична якост, химическа устойчивост, топлопроводимост, издръжливост при висока температура и устойчивост на йонно ецване.
Висока плътност за намалени скорости на ецване.
Отлична изолация с голяма ширина на лентата.
Висока топлопроводимост и нисък коефициент на топлинно разширение.
Превъзходна устойчивост на механичен удар и еластичност.
Висока твърдост, устойчивост на износване и устойчивост на корозия.
Произведено с помощта наплазмено усилено химическо отлагане на пари (PECVD)техники, нашите SiC фокусиращи пръстени отговарят на нарастващите изисквания на процесите на ецване в производството на полупроводници. Те са проектирани да издържат на по-висока плазмена мощност и енергия, особено вкапацитивно свързана плазма (CCP)системи.
иC фокусиращите пръстени на VeTek Semiconductor осигуряват изключителна производителност и надеждност при производството на полупроводникови устройства. Изберете нашите SiC компоненти за превъзходно качество и ефективност.
VeTek Semiconductor е водещ производител и иноватор на фокусиращ пръстен за офорт от Solid SiC и новатор в Китай. Ние сме специализирани в SiC материал от много години. Solid SiC е избран като материал за фокусиращ пръстен поради отличната си термохимична стабилност, висока механична якост и устойчивост на плазма ерозия. Очакваме с нетърпение да станем ваш дългосрочен партньор в Китай.
Прочетете ощеИзпратете запитване