Пробив в технологията на танталов карбид, епитаксиалното замърсяване от SiC намалено със 75%?

Наскоро немският изследователски институт Fraunhofer IISB направи пробив в изследванията и развитието натехнология за покритие от танталов карбид, и разработиха решение за нанасяне на покритие чрез пръскане, което е по-гъвкаво и щадящо околната среда от решението за CVD отлагане и беше комерсиализирано.

И домашният полупроводник vetek също направи пробив в тази област, моля, вижте по-долу за подробности.

Фраунхофер IISB:

Разработване на нова технология за покритие TaC

На 5 март според медиите "Комбиниран полупроводник“, Fraunhofer IISB разработи новтехнология за покритие от танталов карбид (TaC).-Такота. Технологичният лиценз беше прехвърлен на Nippon Kornmeyer Carbon Group (NKCG) и NKCG започна да предоставя графитни части с TaC покритие за своите клиенти.

Традиционният метод за производство на TaC покрития в индустрията е химическо отлагане на пари (CVD), което е изправено пред недостатъци като високи производствени разходи и дълги срокове за доставка. В допълнение, методът CVD също е предразположен към напукване на TaC по време на многократно нагряване и охлаждане на компонентите. Тези пукнатини разкриват основния графит, който се разгражда сериозно с течение на времето и трябва да бъде заменен.

Иновацията на Taccotta е, че използва метод за нанасяне на покритие чрез пръскане на водна основа, последвано от температурна обработка за образуване на TaC покритие с висока механична стабилност и регулируема дебелина върхуграфитена подложка. Дебелината на покритието може да се регулира от 20 микрона до 200 микрона, за да отговаря на различните изисквания за приложение.

Технологията на процеса TaC, разработена от Fraunhofer IISB, може да коригира необходимите свойства на покритието, като дебелина, както е показано по-долу, в диапазона от 35 μm до 110 μm

По-конкретно, спрей покритието Taccotta също има следните ключови характеристики и предимства:

● По-щадящ околната среда: С покритието със спрей на водна основа, този метод е по-щадящ околната среда и лесен за индустриализиране;

● Гъвкавост: Технологията Taccotta може да се адаптира към компоненти с различни размери и геометрия, позволявайки частично покритие и обновяване на компоненти, което не е възможно при CVD.

● Намалено замърсяване с тантал: Графитни компоненти с покритие Taccotta се използват в SiC епитаксиалното производство, а замърсяването с тантал е намалено със 75% в сравнение със съществуващитеCVD покрития.

● Устойчивост на износване: Тестовете за надраскване показват, че увеличаването на дебелината на покритието може значително да подобри устойчивостта на износване.

Скреч тест

Съобщава се, че технологията е била насърчавана за комерсиализация от NKCG, съвместно предприятие, фокусирано върху предоставянето на високоефективни графитни материали и свързани продукти. NKCG ще участва и в развитието на технологията Taccotta за дълго време в бъдеще. Компанията е започнала да предоставя на своите клиенти графитни компоненти, базирани на технологията Taccotta.

Vetek Semiconductor насърчава локализирането на TaC

В началото на 2023 г. vetek semiconductor пусна ново поколение наРастеж на кристали SiCтермично поле материал-порест танталов карбид.

Според докладите vetek semiconductor е направила пробив в развитието напорест танталов карбидс голяма порьозност чрез независими технологични изследвания и разработки. Неговата порьозност може да достигне до 75%, постигайки международно лидерство.