Вакуумен патронник от пореста керамика

Vetek Semiconductor е китайски производител на порест керамичен вакуумен патронник, който се използва за фиксиране и задържане на силициеви пластини или други субстрати чрез вакуумна адсорбция, за да се гарантира, че тези материали няма да се изместят или изкривят по време на обработка. Vetek Semiconducto може да осигури порести керамични вакуумни патронници с висока чистота с висока производителност. Добре дошли на запитване.

Vetek Semiconductor предлага серия от отлични продукти за вакуумни патронници от пореста керамика, специално проектирани да отговорят на строгите изисквания на съвременното производство на полупроводници. Тези носители показват отлична производителност по отношение на чистота, плоскост и персонализирана конфигурация на газовия път.

Неповторима чистота:

Елиминиране на примеси: Всеки вакуумен патронник от пореста керамика се синтерова при 1200°C за 1,5 часа, за да се премахнат напълно замърсяванията и да се гарантира, че повърхността е чиста като нова.

Вакуумна опаковка: За да се поддържа чисто състояние, вакуумният патронник от пореста керамика е опакован във вакуум, за да се предотврати замърсяване по време на съхранение и транспортиране.

Отлична плоскост:

Адсорбция на твърди вафли: Вакуумният патронник от пореста керамика поддържа сила на адсорбция от -60kPa и -70kPa съответно преди и след поставянето на пластината, като гарантира, че пластината е здраво адсорбирана и предотвратява падането й по време на високоскоростно предаване.

Прецизна обработка: Гърбът на носача е прецизно обработен, за да осигури напълно равна повърхност, като по този начин поддържа стабилно вакуумно уплътнение и предотвратява изтичане.

Персонализиран дизайн:

Ориентиран към клиента: Vetek Semiconductor работи в тясно сътрудничество с клиентите, за да проектира конфигурации на газови пътища, които отговарят на техните специфични изисквания за процес, за да оптимизират ефективността и производителността.

Строго тестване на качеството:

Vetek провежда цялостни тестове на всяка част от Porous SiC вакуумен патронник, за да гарантира неговото качество:

Тест за окисление: SiC вакуумният патронник бързо се нагрява до 900°C в среда без кислород, за да симулира действителния процес на окисление. Преди това носителят се отгрява при 1100°C, за да се осигури оптимална производителност.

Тест за метални остатъци: За да се предотврати замърсяване, носителят се нагрява при висока температура от 1200°C, за да се установи дали има утаени метални примеси.

Тест с вакуум: Чрез измерване на разликата в налягането между вакуумния патронник от порест SiC със и без пластината, ефективността му на вакуумно запечатване е стриктно тествана. Разликата в налягането трябва да се контролира в рамките на ±2kPa.

Таблица с характеристики на вакуумен патронник от пореста керамика:

Магазини за вакуумни патронници VeTek Semiconductor Porous SiC: