- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Новини
Технология за нискотемпературна епитаксия на основата на GaN
Тази статия описва главно базираната на GaN нискотемпературна епитаксиална технология, включително кристалната структура на базираните на GaN материали, 3. изискванията за епитаксиална технология и решения за внедряване, предимствата на нискотемпературната епитаксиална технология, базирана на принци......
Прочетете още
Каква е разликата между CVD TaC и синтерован TaC?
Тази статия първо въвежда молекулярната структура и физичните свойства на TaC и се фокусира върху разликите и приложенията на синтерован танталов карбид и CVD танталов карбид, както и популярните продукти за TaC покритие на VeTek Semiconductor.
Прочетете още
